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三氟化氯ClF3

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三氟化氯ClF3

  三氟化氯(CIF3)是一種用于清洗化學氣相沉積腔室及其管道清洗的重要的電子特氣。與其他含氟氣體(如NF3、C2F6和CF4)不同,三氟化氯在室溫下就能夠與半導體材料進行反應,因此它可以清洗冷壁CVD腔室。用三氟Chemicalbook化氯進行清洗是一種化學刻蝕過程,腔室的熱量足以使其分解并與半導體材料反應,不存在等離子體那樣的高能離子轟擊過程,對設備的損壞可以降低到最低限度。相比等離子裂解制氟工藝,三氟化氯清洗工藝簡單而高效,且清洗效果更好。

  能夠超越氧氣的氧化能力導致對含氧材料的腐蝕性,這些材料通常被認為不可燃的。在一工業意外中,900kg的ClF3泄漏把自身燒通30厘米的混凝土和90厘米的礫石。任何和三氟化氯接觸的設備,必須仔細挑選和清潔,因為任何污染可以點燃接觸物。三氟化氯平時是裝在金屬容器里面的,這幾乎算是Chemicalbook唯一能暫時控制它的方法了,只要預先經過處理形成了金屬氟化物保護層,它在一些常見金屬制成的容器里面還可以保持安穩。因為三氟化氯活潑的化學性質,任何接觸它的設備都必須經過仔細的清潔以及保證氣密性。不幸中的萬幸,它會立刻和容器內壁反應生成不再參與反應的氟化物,從而我們可以方便地貯存。

  三氟化氯(ClF3)是一種很強氧化劑和氟化劑。它能大多數有機和無機材料甚至塑料反應,可以使許多材料不接觸火源就燃燒。這些反應通常很劇烈,在某些情況下甚至會爆炸。它與一些金屬反應Chemicalbook生成氯化物和氟化物,與磷反應生成三氯化磷和五氟化磷,而與硫反應生成二氯化硫和四氟化硫。ClF3也與水劇烈反應,水解產生有毒物質,例如氟化氫。H2S在室溫下與ClF3混合就會爆炸。

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